{"id":74748,"date":"2018-03-09T23:19:49","date_gmt":"2018-03-09T23:19:49","guid":{"rendered":"https:\/\/www.deberes.net\/tesis\/sin-categoria\/caracteritzacio-electrica-de-dielectricos-de-puerta-de-dispositivos-mos-con-cafm-sio2-y-dielectricos-de-alta-permitividad\/"},"modified":"2018-03-09T23:19:49","modified_gmt":"2018-03-09T23:19:49","slug":"caracteritzacio-electrica-de-dielectricos-de-puerta-de-dispositivos-mos-con-cafm-sio2-y-dielectricos-de-alta-permitividad","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/www.deberes.net\/tesis\/fisica\/caracteritzacio-electrica-de-dielectricos-de-puerta-de-dispositivos-mos-con-cafm-sio2-y-dielectricos-de-alta-permitividad\/","title":{"rendered":"Caracteritzaci\u00f3 el\u00e9ctrica de diel\u00e9ctricos de puerta de dispositivos mos con cafm: sio2 y diel\u00e9ctricos de alta permitividad"},"content":{"rendered":"<h2>Tesis doctoral de <strong> Franciso Javier Blasco Jimenez <\/strong><\/h2>\n<p>Desde sus inicios unas cuatro d\u00e9cadas, la tecnolog\u00eda microelectr\u00f3nica ha ido reduciendo continuamente las dimensiones de los dispositivos, para ofrecer mejores prestaciones. Actualmente, las dimensiones de inter\u00e9s de los dispositivos han entrado profundamente en el rango nanom\u00e9trico. Como ejemplos representativos, la longitud del canal y el grosor del \u00f3xido de puerta (sio2) de los transitores mos est\u00e1 por debajo delos 100nm y de unos 2nm respectivamente. Dos de los problemas m\u00e1s importantes con que se encuentra la industria microelectr\u00f3nica para continuar mejorando las prestaciones de los dispositivos tienen su origen en la reducci\u00f3n de los dos par\u00e1metros mencionados anteriormente:  * como reducir la longitud de canal hasta pocas decenas de nm  * como solucionar los problemas asociados a la corriente t\u00fanel tan elevada que se tiene en \u00f3xidos de puerta tan extremadamente delgados.  para reducir la longitud de la puerta, y las dimensiones de las estructuras en general, se est\u00e1n siguiendo dos tendencias: por un lado continuar con la fotolitograf\u00eda convencional pero utilizando cada vez radiaciones con una longitud de onda menor, i por otro lado, la utilizaci\u00f3n de t\u00e9cnicas radicalmente nuevas como las microscop\u00edas de sonda cercana. Entre estas \u00faltimas se debe destacar la microscop\u00eda de fuerzas at\u00f3micas (afm), que permite realizar oxidaciones locales con dimensiones laterales m\u00ednimas del orden de 10 nm y dimensiones verticales por debajo de 1nm.  * en esta tesis se ha utilizado este \u00f3xido crecido mediante afm como diel\u00e9ctrico de puerta en estructuras mos y se ha caracterizado con conductive-afm (cafm) tanto a nivel microestructural como el\u00e9ctrico. Adem\u00e1s se ha integrado la oxidaci\u00f3n con afm dentro de un proceso cmos est\u00e1ndar.  una de las principales estrategias que se ha propuesto para reducir la corriente t\u00fanel que se tiene a trav\u00e9s del \u00f3xido de puerta (que provoca un aumento inaceptable del consumo de energ\u00ed<\/p>\n<p>&nbsp;<\/p>\n<h3>Datos acad\u00e9micos de la tesis doctoral \u00ab<strong>Caracteritzaci\u00f3 el\u00e9ctrica de diel\u00e9ctricos de puerta de dispositivos mos con cafm: sio2 y diel\u00e9ctricos de alta permitividad<\/strong>\u00ab<\/h3>\n<ul>\n<li><strong>T\u00edtulo de la tesis:<\/strong>\u00a0 Caracteritzaci\u00f3 el\u00e9ctrica de diel\u00e9ctricos de puerta de dispositivos mos con cafm: sio2 y diel\u00e9ctricos de alta permitividad <\/li>\n<li><strong>Autor:<\/strong>\u00a0 Franciso Javier Blasco Jimenez <\/li>\n<li><strong>Universidad:<\/strong>\u00a0 Aut\u00f3noma de barcelona<\/li>\n<li><strong>Fecha de lectura de la tesis:<\/strong>\u00a0 19\/06\/2005<\/li>\n<\/ul>\n<p>&nbsp;<\/p>\n<h3>Direcci\u00f3n y tribunal<\/h3>\n<ul>\n<li><strong>Director de la tesis<\/strong>\n<ul>\n<li>Montserrat Nafr\u00eda Maqueda<\/li>\n<\/ul>\n<\/li>\n<li><strong>Tribunal<\/strong>\n<ul>\n<li>Presidente del tribunal: Francisco Serra mestres <\/li>\n<li>francesca Campabadal segura (vocal)<\/li>\n<li>germ\u00e1n Gonz\u00e1lez d\u00edaz (vocal)<\/li>\n<li>blas Garrido fernandez (vocal)<\/li>\n<\/ul>\n<\/li>\n<\/ul>\n<p>&nbsp;<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Tesis doctoral de Franciso Javier Blasco Jimenez Desde sus inicios unas cuatro d\u00e9cadas, la tecnolog\u00eda microelectr\u00f3nica ha ido reduciendo continuamente 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