{"id":78437,"date":"2018-03-09T23:24:06","date_gmt":"2018-03-09T23:24:06","guid":{"rendered":"https:\/\/www.deberes.net\/tesis\/sin-categoria\/estudio-de-la-deposicion-asistida-pro-plasma-de-laminas-delgadas-de-oxido-de-silicio-y-siliconas\/"},"modified":"2018-03-09T23:24:06","modified_gmt":"2018-03-09T23:24:06","slug":"estudio-de-la-deposicion-asistida-pro-plasma-de-laminas-delgadas-de-oxido-de-silicio-y-siliconas","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/www.deberes.net\/tesis\/superficies\/estudio-de-la-deposicion-asistida-pro-plasma-de-laminas-delgadas-de-oxido-de-silicio-y-siliconas\/","title":{"rendered":"Estudio de la deposici\u00f3n asistida pro plasma de l\u00e1minas delgadas de \u00f3xido de silicio y siliconas"},"content":{"rendered":"<h2>Tesis doctoral de <strong> Angel Yanguas Gil <\/strong><\/h2>\n<p>La deposici\u00f3n asistida por plasma (pecvd) de l\u00e1minas  delgadas de \u00f3xido de silico y siliconas es un proceso de gran inter\u00e9s debido a su posible aplicaci\u00f3n en microelectr\u00f3nica como materiales de baja constante diel\u00e9ctrica o low-k. En este tipo de procesos las propiedades del material est\u00e1n determinadas por las condiciones de deposici\u00f3n, en las cuales el plasma juega un papel fundamental al controlar las especies que llegan a la superficie del materia.     en esta tesis se ha llevado a cabo el estudio experimental y te\u00f3rico del plasma y de las l\u00e1minas delgadas de sioxcyhz obtenidas a partir de mezclas ar\/o2\/tetrametilsilano. Desde el punto de vista experimental, se han utilizado t\u00e9cnicas como la espectroscop\u00eda \u00f3ptica de emisi\u00f3n y la espectrometr\u00eda de masas para el an\u00e1lisis del plasma, mientras que las l\u00e1minas delgadas han sido caracterizadas por ft-ir, xps y afm. Mediante esta \u00faltima t\u00e9cnica se ha llevado a cabo un estudio de la influencia que el tiempo de deposici\u00f3n y la escala de medida poseen en la rugosidad de las l\u00e1minas delgadas. los resultados obtenidos se han puesto en relaci\u00f3n con la denominada teor\u00eda del escalado din\u00e1mico.     por otro lado, se ha llevado a cabo la simulaci\u00f3n de descargas en ar y o2 mediante un modelo global, el cual ha implicado el desarrollo de modelos cin\u00e9ticos complejos de las especies presentes en los plasmas de estos gases. En el caso del ar, para la construcci\u00f3n de dicho modelo se ha elaborado un nuevo juego de secciones eficaces para los diferentes procesos inel\u00e1sticos por impacto electr\u00f3nico. Asimismo, el proceso de deposici\u00f3n se ha simulado mediante modelos sencillos basados en t\u00e9cnicas de monte carlo din\u00e1micas, a trav\u00e9s de los cuales se ha puesto de manifiesto la influencia que diferentes par\u00e1metros, como la funci\u00f3n de distribuci\u00f3n de las part\u00edculas incidentes, tienen a la hora de determinar la microestructura de las l\u00e1minas delgadas obtenidas.<\/p>\n<p>&nbsp;<\/p>\n<h3>Datos acad\u00e9micos de la tesis doctoral \u00ab<strong>Estudio de la deposici\u00f3n asistida pro plasma de l\u00e1minas delgadas de \u00f3xido de silicio y siliconas<\/strong>\u00ab<\/h3>\n<ul>\n<li><strong>T\u00edtulo de la tesis:<\/strong>\u00a0 Estudio de la deposici\u00f3n asistida pro plasma de l\u00e1minas delgadas de \u00f3xido de silicio y siliconas <\/li>\n<li><strong>Autor:<\/strong>\u00a0 Angel Yanguas Gil <\/li>\n<li><strong>Universidad:<\/strong>\u00a0 Sevilla<\/li>\n<li><strong>Fecha de lectura de la tesis:<\/strong>\u00a0 27\/01\/2006<\/li>\n<\/ul>\n<p>&nbsp;<\/p>\n<h3>Direcci\u00f3n y tribunal<\/h3>\n<ul>\n<li><strong>Director de la tesis<\/strong>\n<ul>\n<li>Jos\u00e9 Cotrino Bautista<\/li>\n<\/ul>\n<\/li>\n<li><strong>Tribunal<\/strong>\n<ul>\n<li>Presidente del tribunal: Jos\u00e9 manuel Casado vazquez <\/li>\n<li>Luis Lemos alves (vocal)<\/li>\n<li>Jos\u00e9 Mar\u00eda Albella martin (vocal)<\/li>\n<li> Gordillo v\u00e1zquez Francisco Jos\u00e9 (vocal)<\/li>\n<\/ul>\n<\/li>\n<\/ul>\n<p>&nbsp;<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Tesis doctoral de Angel Yanguas Gil La deposici\u00f3n asistida por plasma (pecvd) de l\u00e1minas delgadas de \u00f3xido de silico y [&hellip;]<\/p>\n","protected":false},"author":1,"featured_media":0,"comment_status":"open","ping_status":"open","sticky":false,"template":"","format":"standard","meta":{"site-sidebar-layout":"default","site-content-layout":"","ast-site-content-layout":"","site-content-style":"default","site-sidebar-style":"default","ast-global-header-display":"","ast-banner-title-visibility":"","ast-main-header-display":"","ast-hfb-above-header-display":"","ast-hfb-below-header-display":"","ast-hfb-mobile-header-display":"","site-post-title":"","ast-breadcrumbs-content":"","ast-featured-img":"","footer-sml-layout":"","theme-transparent-header-meta":"","adv-header-id-meta":"","stick-header-meta":"","header-above-stick-meta":"","header-main-stick-meta":"","header-below-stick-meta":"","astra-migrate-meta-layouts":"default","ast-page-background-enabled":"default","ast-page-background-meta":{"desktop":{"background-color":"var(--ast-global-color-4)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center 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