Deposicion de peliculas de silice amorfa a partir de vapor mediante laser de excimero en configuracion paralela.

Tesis doctoral de Gonzalez Fernandez Pio Manuel

Esta tesis trata sobre la deposicion de peliculas delgadas de oxido de silicio sobre silicio cristalino mediante la tecnica lcvd utilizando un laser de excimero en configuracion paralela. Se presenta un estudio exhaustivo de la influencia de los parametros de procedimiento en la velocidad de deposicion y propiedades de las peliculas. Ademas se ha elaborado un modelo descriptivo del proceso de deposicion, se ha realizado un compendio de relaciones empiricas para la determinacion indirecta de las propiedades de las peliculas y, por ultimo, se han estudiado las aplicaciones microelectronicas y metalurgicas de estas peliculas.

 

Datos académicos de la tesis doctoral «Deposicion de peliculas de silice amorfa a partir de vapor mediante laser de excimero en configuracion paralela.«

  • Título de la tesis:  Deposicion de peliculas de silice amorfa a partir de vapor mediante laser de excimero en configuracion paralela.
  • Autor:  Gonzalez Fernandez Pio Manuel
  • Universidad:  Santiago de compostela
  • Fecha de lectura de la tesis:  01/01/1991

 

Dirección y tribunal

  • Director de la tesis
    • martínez Y Pérez Pérez
  • Tribunal
    • Presidente del tribunal: Miguel Lopez Coronado
    • Martinez Duart José Manuel (vocal)
    • Juan Piqueras Martinez (vocal)
    • Gerardo Lopez Araujo (vocal)

 

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